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gan快速退火爐╃▩╃,gan快速退火爐的配置和特點有哪些▩✘?

作者│₪↟:admin 瀏覽量│₪↟:383 來源│₪↟:本站 時間│₪↟:2022-09-17 13:41:08

資訊摘要│₪↟:

GaN快速退火爐使用方便╃▩╃,易於操作╃▩╃,加熱元件採用紅外燈管╃▩╃,加熱速度快╃▩╃,節省時間│◕↟。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程╃▩╃,操作方便╃▩╃,可快速獲得實驗結果╃▩╃,省去了重複的法蘭安裝過程╃▩╃,減少了爐管安裝造成的損壞│◕↟。那麼你知道它該有怎樣的配置和特點嗎▩✘?GaN快速退火爐適用於CVD工藝╃▩╃,例如碳化矽塗層╃▩╃,陶瓷基板電導率測試╃▩╃,ZnO

  GaN快速退火爐使用方便╃▩╃,易於操作╃▩╃,加熱元件採用紅外燈管╃▩╃,加熱速度快╃▩╃,節省時間│◕↟。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程╃▩╃,操作方便╃▩╃,可快速獲得實驗結果╃▩╃,省去了重複的法蘭安裝過程╃▩╃,減少了爐管安裝造成的損壞│◕↟。那麼你知道它該有怎樣的配置和特點嗎▩✘?
  GaN快速退火爐適用於CVD工藝╃▩╃,例如碳化矽塗層╃▩╃,陶瓷基板電導率測試╃▩╃,ZnO奈米結構的受控生長╃▩╃,陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結和其他實驗│◕↟。此CVD系統配置│₪↟:1200度開放式真空管式爐(可選單溫度區╃▩╃,雙溫度區)│◕↟。多通道質量流量控制系統╃▩╃,真空系統(可以選擇中真空或高真空)│◕↟。
 

GaAs/GaN用快速退火爐

  1₪☁·₪✘、控制電路採用模糊PID程式控制技術╃▩╃,具有溫度控制精度高╃▩╃,熱慣性低╃▩╃,溫度超調╃▩╃,效能可靠╃▩╃,操作簡單的特點│◕↟。
  2₪☁·₪✘、氣路快速連線法蘭結構採用公司*的智慧財產權設計╃▩╃,提高了操作的便利性│◕↟。
  3₪☁·₪✘、中真空系統具有自動控制真空度上限和下限的功能╃▩╃,高真空系統使用高壓耐衝擊分子泵│◕↟。
  GaN快速退火爐易於操作╃▩╃,加熱元件採用紅外燈管╃▩╃,加熱速度快╃▩╃,節省時間│◕↟。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程╃▩╃,操作方便│◕↟。實驗結果可以很快獲得╃▩╃,並且省去了重複的方法╃▩╃,藍色的安裝過程減少了由於安裝引起的爐管損壞│◕↟。


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